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林薇站在长桌前，面前摊着追光四期的工艺验证计划草案，足足两百多页，每一页都贴满了标签和批注。梁志远坐在她右侧，手里拿着一台终端，上面显示着追光三期量产线的实时数据。张京京从合城赶来，坐在左侧，面前是一叠追光产线工艺改良的最新报告。章宸也到了，坐在稍远的位置，翻看着追光四期与天权晶片工艺的接口文档。
追光三期的主腔体材料实验在六周前给出了两条可行路径——梯度过渡层优先上量产，涂层改性并行研发。六千万的产线工艺改良投入已经执行了四周，旋转阴极丶等离子清洗丶洁净度升级三条线同步推进，良率从百分之九十一拉到了百分之九十三点五，距离百分之九十五的目标还差一点五个百分点。这些成绩让团队对追光技术路线有了信心，但林薇知道，追光三期只是解决了「能不能做出来」的问题。追光四期要解决的是「能不能做得更好丶更快丶更便宜」的问题。
会议开始前，林薇先让梁志远汇报了追光三期的量产数据。
「追光三期量产线，过去四周的累计数据——总投片一万两千片，良品率百分之九十三点五，比四周前提升了二点五个百分点。旋转阴极的均匀性从正负百分之五优化到正负百分之三，等离子清洗的颗粒去除率从百分之九十五提升到百分之九十八，洁净度从千级提升到百级。三条线的改良都达到了预期目标。」
「但有一个问题——梯度过渡层的工艺窗口太窄。温度丶气压丶功率三个参数的允许波动范围只有正负百分之一，超出这个范围，过渡层的结合力就会下降。产线上的操作工需要非常精细的控制，稍有疏忽就会造成批量报废。我们正在开发自动反馈控制系统，把参数波动范围放宽到正负百分之三。」
林薇在笔记本上记下了「自动反馈控制」这几个字。
张京京补充道:「涂层改性的并行研发也有进展。郑教授的团队在实验室里做出了一种新型梯度涂层，结合力比现有方案高百分之三十，热膨胀系数和基体更匹配。但这个方案需要在追光四期上验证，追光三期的腔体结构不支持。」
林薇点了点头，翻到追光四期工艺验证计划的第一页。
「追光四期的定位——不是追光三期的简单升级，而是下一代镀膜平台。设计目标是——镀膜均匀性正负百分之一以内，界面结合力提升百分之五十，工艺窗口放宽到正负百分之三，单片成本降低百分之三十。同时，支持更大尺寸的基板，从目前的八英寸扩展到十二英寸。」
「验证计划分为三个阶段。第一阶段，核心模块验证，周期八周。第二阶段，整机集成验证，周期十二周。第三阶段，量产爬坡验证，周期十六周。总计三十六周，大约九个月。」
梁志远站起来，走到投影幕前，调出了追光四期的系统架构图。
「追光四期的核心改进有四点。第一，腔体结构重新设计。追光三期的腔体是单室结构，镀膜和基板传输在同一个腔室，相互干扰。追光四期采用多室结构——进样室丶镀膜室丶出样室分开，基板通过真空传输轨道移动。这样可以
