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第七十章 授业之恩,今生难忘

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    “多重曝光技术?”
    站在高永明右侧的工程师露出抹不解,他叫唐鑫宇,是龙芯国际光刻团队的副首席。
    他好像听说过,但记不起来在哪听过了。
    “没错。”
    林天点了点头,语气坚定道“duv光刻机是可以制造14纳米芯片的,它的极限远不止于此,理想状态是能到7纳米。”
    高永明“!!!”
    唐鑫宇“!!!”
    曲程“!!!”
    duv光刻机极限居然是7纳米?
    你在开什么玩笑?
    陈星也被惊到了,如果真能使用一台20纳米制程的duv光刻机造出7纳米芯片,那西方会不会对此大跌眼镜?
    别看明面上,米国还没下场封锁技术,但背地里,其实早就限购光刻机了。
    它的做法很简单,可以卖你龙国光刻机,但不能卖给你最先进的光刻机。
    例如两年前,28纳米还属于先进水平的时候,28纳米制程的duv光刻机就不能卖给龙国,谁敢卖,就是和米国作对。
    荷兰敢吗?
    显然是不敢的,它们也没有这个本事。
    荷兰a公司说白了,它就是个光刻机组装工厂,没有米国的光源技术,它啥也不是。
    而到了今天,西方攻克了14纳米芯片后,已经把目光看向了7纳米芯片,自然而然的,20纳米duv光刻机就被放开了。
    米国目的很明显,允许你用,但不允许你超越。
    越是害怕,越会提防,因为龙国才脱离战争不到三十年,就发展到了世界第二大经济体,再给发展三十年会怎么样?
    沉睡的雄狮,东方的巨龙,它们哪敢不防?
    陈星虽然是商人,但同时也是位龙国商人,如果能在自家搞出14纳米芯片,那他还是愿意多支付一些流片费用的。
    毕竟曲程也说了,之前龙兴科技公司申请的国家芯片扶持也走完审核流程,资金和土地都进入了最终的批准环节。
    “说说使用这个多重曝光技术,流片要多少钱?”
    陈星表明自己态度。
    林天得到确切的答复后,述说自己的想法道
    “光刻多重曝光技术,说通俗直白一点就是,原本只需一块的芯片掩膜版就可以搞定的生产,现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制,将它拆分多块,每一块都有相对应的电路图案。”
    “比如我们要做14纳米芯片,可以把设计的芯片电路图案拆开,就得到了两份28纳米间隔的电路图案,分两次把它们刻在硅片上,就会形成完整的14纳米芯片电路图案,就类似于我们龙国的太极图,一阴一阳互补的意思。”
    “因为是两块芯片掩膜版,所以要给双倍的流片费用。”
    陈星大致听明白了,这個多重曝光技术就相于要印刷一个ab字母的组合图案。
    第一步先把ab拆开,得到a与b两个图案,然后将它们分别制作光掩膜版,紧接着用第一块a字母的掩膜版在硅片上刻了a,再用b字母的掩膜版在硅片上刻上b,最终得到所需
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